DLP650LNIR 数字微镜器件可作为空间光线调制器 (SLM)，在工业设备中控制近红外 (NIR) 光并生成用于实现高级成像的高速图形。该器件采用了高效散热型封装，允许客户将 DMD 与高功率 NIR 激光照明相结合，从而提供动态数字印刷、烧结和打标解决方案。DLP650LNIR、DLPC410、DLPR410 和 DLPA200 芯片组可提供高达 12,500Hz 的 1 位图形速率及像素精确控制，因此设计人员可以设计出比传统控制激光器所允许的更加创新和精确的光学系统。
| Illumination wavelength (min) (nm) | 800 |
| Illumination wavelength (max) (nm) | 2000 |
| Micromirror array size | 1280 x 800 |
| Chipset family | DLP650LNIR, DLPA200, DLPC410, DLPLCR65NEVM, DLPLCRC410EVM, DLPR410 |
| Micromirror pitch (mm) | 0.0108 |
| Component type | DMD |
| Micromirror array orientation | Orthogonal |
| Pattern rate, binary (max) (Hz) | 12500 |
| Array diagonal (in) | 0.65 |
| Display resolution (max) | 1280 x 800 (WXGA) |
| Rating | Catalog |
| Operating temperature range (°C) | 0 to 70 |
| Pattern rate, 8-bit (max) (Hz) | 1563 |
| Micromirror driver support | External |
| Thermal dissipation (°C/W) | 0.5 |
| DLP-S450 (FYL) | 149 | 718.06 mm² 22.3 x 32.2 |
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