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  从 1α 到 1β，美光不断创新

  自 2021 年 1 月率先出货基于 1α (1-alpha) 制程技术的 DRAM 产品以来，美光便确立了在 DRAM 技术领域的市场领先地位。2022 年 5 月 12 日，美光首次就新一代 前沿 DRAM 技术作出说明。

  新一代 1β DRAM 技术超越了目前基于 1α DRAM 技术的产品的领导地位。美光在 LPDDR5X 移动内存上采用新一代制程技术，目前已向部分智能手机制造商和芯片平台合作伙伴送样以进行验证，并做好了量产准备。这一重要技术里程碑将推动美光及其合作伙伴不断向前迈进，推出性能与能效更为出色的产品，创新智能手机使用模式，引领下一波风潮。

  除处理器技术与存储技术外，内存技术也是驱动科技发展的关键因素。所有需要通过云访问的服务，以及几乎所有的“智能”设备都离不开内存技术。从最早支持手机的影像功能，到支持平板电脑、轻薄笔记本和可穿戴设备，内存技术一直发挥着重要的推动作用。假如处理器无法快速访问应用程序和数据，就会阻碍技术发展，也难以为用户带来新的体验。在制程技术领域，美光每一次成功缩小电容和晶体管尺寸，都意味着内存密度、能效和性能的进一步提升，能够帮助美光解锁新机遇，实现数字化、更优化和自动化。尽管未来难以预测，但从移动端客户的利益出发，我们深信基于 1β 节点的新一代 DRAM 将会带来全新的技术应用和巨大的商业优势。

  小小进步，成就技术领导力

  半导体的开发工艺十分精细，需要用到名为节点 的技术，并通过节点来制造一代又一代新产品，例如 DDR5、DDR4、LPDDR 和 GDDR 等。通常情况下，节点的每次更新都意味着裸片上晶体管与电容的最小元件的尺寸进一步缩小，以及采用了先进的 CMOS 技术。

  因此，相较于上一代基于 1α 节点的 DRAM，美光全新的 1β 制程技术意味着每个晶体管的尺寸都更小、能耗更低。1β 节点的初步测试结果显示，相较于 1α 技术，1β 技术可显著提升产品性能，将能效提高约 15%。对移动端客户而言，目前正在试用的基于 1β 节点的 LPDDR5X 移动内存，既能满足他们对高性能的需求，也能实现低功耗。

  通常只有拥有先进技术节点的公司才能出生产高密度、高能效(每比特功率)和低功耗的元件。因此，尽管 JEDEC 很大程度上标准化了内存等产品的制造，但从美光等拥有先进制程节点技术的公司进行采购仍是最优选择。

  制造先进的半导体产品十分不易。首先需要投资数十亿美元，用于建造高标准的洁净设备以制造尺寸极其微小的元件。制造过程需要保证极高的精度与一致性。但这还远远不够，制造先进半导体产品还需要顶尖的团队持续创新，才能设计出能够满足节点所需的设备、材料、工艺和工具。

  例如，制造像美光 1β DRAM 这样先进的半导体产品，需要经历一千多道独立的制程与测量工艺。而该过程中的每一步，都需要至少一台造价高昂且先进的机器，逐步进行关键且精准的操作以处理超纯硅晶体，在每个晶圆的数百个裸片中构建出晶体管。然后再对这些裸片进行测试、分割和封装，最终成为我们在电脑或其他电子设备的 DIMM 中所见到的内存模块。此外，创新电路设计对于生产更低功耗和更高速度的产品也至关重要。我们必须通过大量验证来调试和优化制程技术与电路设计。

  美光已经开始制造并向部分战略智能手机客户率先出货相应的内存产品，用于下一代智能手机的开发和测试。

  潜心投入，带来丰厚回报

  作为一名技术人员，每次我的团队实现了重要里程碑，例如量产新的制程节点等，我都十分激动。当然，在我们取得进一步进展并向市场交付新技术时，这种成就感就更加强烈。因为只有客户采用了我们的技术，我们所投入的时间、资金和精力才有价值。每当美光出货新产品，我们的合作伙伴和客户很快就会将成品投放市场—这是真正激动人心的时刻。

  推出 1β 节点不仅使美光的技术领先业界，更让我们自豪的是，我们的技术能够支持一部分市场上最畅销的手机品牌和设备，助推它们实现更强大的性能。

  随着首批搭载 1β 技术节点的智能手机获得全面的开发和认证，美光正在将工作重心转向下一个任务：除了在 LPDDR5X 移动内存上采用 1β 技术节点外，我们将加速把该技术应用到更广泛的产品组合中。1β 制造工艺具有出色的性能和能效，通过美光广泛的产品组合，几乎能让所有应用市场和内存技术领域的客户受益。