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  2022年3月8日消息，光刻机巨头ASML官网发布了一则“关于额外出口管制的声明”文章，文章中称将对最先进的沉积和浸没式光刻机(DUV)实施出口管制措施。但ASML也表示，此次并不适用于所有浸润式DUV设备，只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统(DUV)，即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

ASML官网消息

ASML公司 浸润式光刻系统(DUV)

  ASML公司官网信息显示，该公司DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的“最先进”的浸润式光刻系统。

  光刻机主要分为极紫外线(EUV)光刻机和深紫外线(DUV)光刻机，DUV光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片，EUV主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺。

  早在2018年，美国政府游说荷兰政府禁止ASML对华出口EUV光刻机，ASML无法向中国出口EUV光刻机。

  ASML此次禁售TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统(DUV)，将大大影响我国14nm以下制程芯片的突破，目前尚未知已售的TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统后续维护保养是否受到影响。

  3月9日，ASML回应新出口管制：需要一定时间才能付诸立法并生效。