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碳化硅和IGBT优缺点
2023-04-13 1964次

  碳化硅和IGBT优缺点在对碳化硅长达30多年的研究中,英飞凌的技术打磨和沉淀,最终体现在具体的产品和技术上,典型的就是英飞凌CoolSiC™ MOSFET,它可以简化拓扑结构,减少器件数量,降低损耗,提高功率密度。

  CoolSiC™ MOSFET 芯片面积比IGBT小很多,大约是IGBT与续流二级管之和的五分之一;在耐高压方面则可以通过提高系统的开关频率来提高系统性能,提高系统功率密度;在可靠性和质量保证方面,能很好地规避平面栅的栅极氧化层可靠性问题,同时功率密度也更高。

  正是由于SiC MOSFET这些出色的性能,其在光伏逆变器、UPS、ESS、电动汽车充电、燃料电池、电机驱动和电动汽车等领域都有相应的应用。

  相对而言,安森美的技术和产品更加集中在汽车半导体领域,如电动汽车主驱领域的M3系列碳化硅功率模块,及后续更大性能提升的M3e系列。在碳化硅设计生产方面,安森美拥有近20年的经验积累,目前已发布了三代碳化硅 MOSFET,每一代都针对一种特定的应用:

  

 

 

  M1基于Square cell结构,适用于工业和汽车应用,针对在20 kHz范围内运行的最低导通损耗和稳定可靠性进行了优化;M2系列应用了Hex cell结构,涵盖同类型但电压较低的应用,具有针对这些电压优化的新型晶胞结构;M3系列采用了Strip cell结构,主要针对快速开关应用;下一代安森美将采用Trench cell结构,其性能还将得到进一步提升。用安森美的话说,其所有的碳化硅器件都已达到最高的可靠性水平,并已完全实现工业化。

  在功率设备领域,安森美一方面从基础、晶圆、单管、模块到系统级都有完整的硅基设备和碳化硅设备解决方案。另一方面,安森美近年来仍在不断投资改进碳化硅设备的沟槽设计、包装技术和工艺,大大提高了终端设备的转换效率、功率密度和成本控制。与此同时,硅基设备也在不断改进,以满足新的应用需求。

  安森美中国汽车碳化硅现场应用工程师牛嘉浩总结说,新技术的发展并不意味着原技术的消亡,这是一个迭代的过程。虽然碳化硅迅速崛起,取代硅基设备是一些应用的主流趋势,但硅基功率设备仍占据大部分市场,有自己的优势,不会在短时间内退出舞台。

  从安森美和英飞凌对IGBT和碳化硅的态度来看,硅基IGBT本身的股票市场仍然很大,碳化硅器件仍处于早期发展阶段,无论是起步还是加快发货,两者的市场总量仍有一定差距,两者不是零和博弈,甚至有许多新的应用领域,需要两者共同发挥,在交叉互补中前进。IGBT余热尚未消散,碳化硅新风缓缓掀起。

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